SEMI示警:美國無法阻止DUV設備輸入中國,紅色供應鏈仍可打價格戰搶單

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據外媒引述知情人士指出,美國將更近一步從先進製程擴大範圍到「成熟製程」的深紫外光刻機台(DUV)。如果艾司摩爾同意,將再度重擊包含中芯國際、華虹半導體等中國晶片製造商
晶片大戰日益白熱化。知情人士告訴《彭博社》,美國希望半導體設備大廠艾司摩爾(ASML),禁止向中國輸出大部分電子晶片所需的設備——深紫外光刻機台(DUV)從而抑制中國崛起。不過,業界認為艾司摩爾恐擔心中國市場受創將難以和美國達成協議。
艾司摩爾陷入對中出口設備的兩難
過去,白宮已經以國家安全為由,要求艾司摩爾出口先進製程設備極紫外光微影(EUV)。這個技術是目前製造高階晶片的重要設備,在半導體領域中7奈米以下則跨入先進製程的範圍,同時也是台積電最重要的技術。
如今,知情人士指出,美國將更近一步從先進製程擴大範圍到成熟製程的深紫外光刻機台(DUV)。如果艾司摩爾同意,將再度重擊包含中芯國際、華虹半導體等中國晶片製造商,就商品類別而言,也從高階的人工智慧,一路下探至中低階的手機、車用電子產品。
針對這項傳聞,2月3日國際半導體產業協會(SEMI)、顧問公司Evercore ISI等均示警,相關措施恐難以徹底實行。
《經濟日報》引述SEMI說法強調,若日荷若要管制機台出口,並不會像美國那麼嚴格,除非盟邦同意先對中國生產的先進晶片,進行更大的邊境管制才有效果;而紅色供應鏈仍可以量取勝,大打價格戰搶單,這意味著包含聯電在內的成熟製程台廠,轉單效應破滅。
《關鍵評論網》實際詢問位於超豐電子的業內人士Jason(匿名)強調,不太可能完全禁止中低階的設備出口到中國。一方面對艾司摩爾而言,雖然DUV不如高階EUV好賺,但是設備的數量比較多,也是艾司摩爾的重要營運支柱,因此要完成協議不太可能。
根據艾司摩爾2022年財報披露,2021年它們的第一大客戶就是中國晶片業者,貢獻營收超過290億美元,而台灣和韓國貢獻的收入大約在250億美元左右,隨著近年中國對於晶片的憂慮加劇,中國已經成為艾司摩爾的最大市場之一,目前它們在中國擁有有15個辦事處、11個倉儲物流中心、3個開發中心、1個培訓中心以及1個維修中心。
Jason也提到,美國要以何種「國安理由」禁止中低階設備出口,過去高階設備可能使中國在軍事、5G通訊和人工智慧領域對於民主體制造成危機,因此並沒有理由得以限制DUV出口。最後,無論是EUV還是DUV等半導體機台,並不是只有荷日2國受到影響,其供應鏈龐大,牽涉多國業者包含鏡頭、光罩和化材等千上萬的供應商。
倘若DUV被禁止,將打擊中國半導體產業
根據集邦科技(TrendForce)研究預估,7奈米(含)以下先進製程產能方面,至2025年台灣占比約69%、韓國18%、美國12%、中國1%。相較2022年的格局,顯見美國未來3年將提升先進製程產能占比,而中國則以成熟製程為主軸。
由於美國實體清單已經禁止先進製程輸出中國,多數中國晶圓代工業者因而轉向積極擴充28奈米及以上成熟製程技術,於此同時中國亦積極培植國產半導體設備。值得一提的是中芯在2020年被列入管制前,已開始發展DUV曝光的N+2(7奈米)製程技術,以當時採購之機台進行研發。
但是由於7奈米(含)以下晶片已逼近物理極限,若採用DUV而非轉用EUV技術,則需要經歷更複雜的製作程序,將影響其良率與成本表現。
有鑑於此,中芯近年以土法煉鋼的方式成功量產7奈米製程產品。因此集邦科技認為,美國還會不斷進行遊說,擴大限制範疇至DUV,倘若成功,不僅影響中國往7奈米(含)以下先進製程研發的推進,也將對目前中國半導體擴產主力製程40奈米及28奈米擴產活動造成極大影響。
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核稿編輯:翁世航
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▶展覽資訊
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時間:10:00 - 18:00
地點:華山1914文創產業園區西4館&西5館
購票詳情洽:《2222-未來選擇地》

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(註1)SDGs永續發展目標(Sustainable Development Goals)是一項全球共識,旨在2030年前實現可持續發展的一系列目標。由聯合國提出訂定17項明確目標、涵蓋169項具體指標,目的是實踐地球上所有面向的永續發展,包含地球環境保護、社會公平正義、永續經濟發展。
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